LRCX
Bounce Up
TP2 Hit · +15.0%
Semiconductors
★★★★★
4/0 质量
入场
$136.79
止损
$121.27
TP1
$160.09
R:R
1.50
分析师 vs AI 判定
华尔街
78.0%
买入评级
10
强烈买入
22
买入
9
持有
0
卖出
0
强烈卖出
41 位分析师 · 2026年5月1日
AI专家小组
价格走势图
基本面趋势
| 指标 | 2025-06-29 | 2025-09-02 | 2025-10-02 | 2025-11-03 | 2025-12-03 | 2026-01-02 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| ROE (TTM) | 58.5% | 58.5% | 58.5% | 60.6% | 60.6% | 60.6% |
| P/E (TTM) | 23.24 | 23.75 | 34.27 | 34.04 | 34.20 | 37.00 |
| Net Margin | 33.3% | 29.1% | 29.1% | 29.7% | 29.7% | 29.7% |
| Gross Margin | 50.1% | 48.7% | 48.7% | 49.3% | 49.3% | 49.3% |
| D/E Ratio | 45.47 | 45.47 | 45.47 | 43.99 | 43.99 | 43.99 |
| Current Ratio | 2.21 | 2.21 | 2.21 | 2.21 | 2.21 | 2.21 |
公司简介
应用材料公司设计、制造、营销、翻新和维修用于在美国、中国、韩国、台湾、日本、东南亚和欧洲制造集成电路的半导体加工设备。该公司提供 ALTUS 系统,用于沉积用于钨或钼金属化应用的共形或选择性薄膜;SABRE 电化学沉积产品,用于铜互连过渡,提供铜镶嵌制造;SPEED 间隙填充高密度等离子体化学气相沉积 (CVD) 产品;Striker 单晶圆原子层沉积产品,用于介电薄膜解决方案;以及 VECTOR 等离子体增强 CVD 产品。它还提供用于介电刻蚀应用的 Flex;Vantex,一种介电刻蚀系统,提供射频技术和由设备智能解决方案实现的、可重复的晶圆到晶圆性能;Kiyo 用于导体刻蚀应用;Syndion 用于硅通孔刻蚀应用;以及 Versys 金属产品,用于金属刻蚀工艺。此外,该公司提供 Coronus 倒角清洁产品,以提高芯片产量;以及 Da Vinci、DV-Prime、EOS 和 SP 系列产品,以满足各种晶圆清洁应用。此外,它还提供 Reliant 沉积、刻蚀和清洁产品;以及 Sense.i 平台产品,以及客户服务、备件和升级。Lam Research Corporation 成立于 1980 年,总部位于加利福尼亚州弗里蒙特。
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出场价格
$157.31
利润
+15.0%
持有时间
103 天
最高价
$160.10
退出理由
tp2_hit
历史统计
LRCX Bounce Up
总尝试次数
4
触及 TP
2
触及 SL
1
胜率
50.0%
平均盈利持续时间
36.0 天
最近结果
TP
信号信息
创建于
十一月 21, 2025 00:00
更新于
十二月 03, 2025 16:00
超时
90 天
免责声明: 这是由AI分析生成的自动交易信号,不构成投资建议。在做出投资决策前,请务必进行自主研究。过往表现不代表未来结果。