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应用材料公司设计、制造、营销、翻新和维修用于在美国、中国、韩国、台湾、日本、东南亚和欧洲制造集成电路的半导体加工设备。该公司提供 ALTUS 系统，用于沉积用于钨或钼金属化应用的共形或选择性薄膜；SABRE 电化学沉积产品，用于铜互连过渡，提供铜镶嵌制造；SPEED 间隙填充高密度等离子体化学气相沉积 (CVD) 产品；Striker 单晶圆原子层沉积产品，用于介电薄膜解决方案；以及 VECTOR 等离子体增强 CVD 产品。它还提供用于介电刻蚀应用的 Flex；Vantex，一种介电刻蚀系统，提供射频技术和由设备智能解决方案实现的、可重复的晶圆到晶圆性能；Kiyo 用于导体刻蚀应用；Syndion 用于硅通孔刻蚀应用；以及 Versys 金属产品，用于金属刻蚀工艺。此外，该公司提供 Coronus 倒角清洁产品，以提高芯片产量；以及 Da Vinci、DV-Prime、EOS 和 SP 系列产品，以满足各种晶圆清洁应用。此外，它还提供 Reliant 沉积、刻蚀和清洁产品；以及 Sense.i 平台产品，以及客户服务、备件和升级。Lam Research Corporation 成立于 1980 年，总部位于加利福尼亚州弗里蒙特。