AIエージェントがこのニュースについて考えること
ASMLのEUV独占と高NA EUV採用の可能性は主要な推進要因ですが、地政学的リスクと潜在的な収益共食いは重大な課題をもたらします。高NA EUVの展開が2026年までに中国のレガシー市場の損失を相殺しない場合、2027年のEPS倍率35.1倍は持続不可能になる可能性があります。
リスク: 「中国の崖」と、潜在的に「収益の穴」と倍率の縮小につながる可能性のある高NA EUVの採用の遅れ。
機会: 高NA EUV採用の加速。各マシンは、18か月以内に失われた中国のDUV販売の3〜4年分を置き換える可能性があります。
要点
ASMLのバリュエーションは割高になっている。
EUVシステムが総売上高に占める割合が増加しているため、収益成長と利益率が上昇している。
ASMLは半導体業界の景気循環に耐えうるように構築されている。
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ASML(NASDAQ: ASML)は過去1年間で79.5%上昇し、テクノロジーセクターの26.8%の上昇とナスダック総合指数(NASDAQINDEX: ^IXIC)の22.4%の上昇をはるかに上回った。
AIは世界初の兆万長者を生み出すのか?私たちのチームは、NvidiaとIntelの両方が必要とする重要な技術を提供する「不可欠な独占企業」と呼ばれる、ほとんど知られていない企業に関するレポートをリリースしました。続きを読む »
アナリストのコンセンサス予想では、ASMLは2026年に1株当たり利益(EPS)29.69ドルを稼ぎ、2027年には26.3%増の37.51ドルになると見込まれている。この驚異的な成長率をもってしても、ASMLは2027年の予想利益の35.1倍で取引されており、これは決して安いとは言えない。
ここでは、ASMLが超長期投資家にとって依然として割安である可能性がある理由を説明する。
すべての道はASMLに通じる
Amazon、Microsoft、Alphabet、Meta Platformsのようなハイパースケーラーは、AIデータセンター向けのチップを購入しており、NvidiaやBroadcomのような企業に利益をもたらしている。しかし、これらの企業は実際にチップを製造しているわけではない。
その事業は、大規模な半導体製造施設を持つTaiwan Semiconductor、Samsung Electronics、Intelのような受託製造業者に渡る。これらの工場は世界で最もテクノロジーに精通したサイトの1つであり、AIチップの精密エンジニアリングのための高度な設備を備えている。
半導体製造装置メーカーは、人工知能(AI)支出の最大の受益者の一部である。そしてASMLは、チップ製造プロセスの最も重要な部分であるリソグラフィーにおいて事実上の独占状態にあるため、半導体製造装置メーカーの中で最も価値がある。
ASMLは60億ユーロ以上を投資し、17年以上を費やして、レンズを使って光を屈折させるのではなく、真空チャンバー内の特殊な多層ミラーに光を反射させる極端紫外線(EUV)リソグラフィーのコードを解読した。このプロセスにより、ASMLはそうでなければ吸収されるEUV光を使用でき、マイクロチップあたりのトランジスタ数、相互接続されたレイヤー、そして最終的にはより良いパフォーマンスを可能にする。ASMLの技術は、高度であり、大量生産向けに設計されているため、再現が困難であり、これはまさにチップメーカーが生産サイクルを加速するために必要としているものである。
次世代チップは、ファブにASMLの最新EUVマシンを購入するよう促しており、需要のブームを生み出している。2025年第4四半期には、EUVは総純予約高の56.1%を占めた。そして販売されたEUVシステムのうち、2つだけがASMLの最も先進的な高開口数(NA)マシンだった。
ASMLはプレミアム価格に見合う価値がある
ASMLは信じられないほど複雑な製品を作っているが、その投資テーゼは実際には非常にシンプルである。AIチップのイノベーションは、ASMLマシンを搭載した最先端のファブに対する需要を増大させる。そして、私たちはまだハイNA EUVのロールアウトの初期段階にあるため、ASMLには持続的な成長のための明確な道筋がある。
しかし、ASMLはオール・オア・ナッシングのAI株ではない。その事業の大部分は、汎用チップの製造に必要な深紫外線(DUV)マシンである。DUVシステムは、AIチップの製造においてEUVと並行して使用される。稼働中のリソグラフィーマシンのサービス(主にDUV)は、ASMLのビジネスの大部分を占めており、総収益の約4分の1を占めている。
ASML株が冷え込み、利益がバリュエーションを下げるのに追いつく時間を与えるとしても、私は驚かないだろう。しかし、ファンダメンタルズを考慮すると、ASMLは長期的に主要指数をアウトパフォームする非常に良いチャンスがあり、おそらく1兆ドルの時価総額に達する最初の欧州企業になるだろう。
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Daniel FoelberはASMLとNvidiaのポジションを保有している。モトリーフールはASML、Alphabet、Amazon、Intel、Meta Platforms、Microsoft、Nvidia、Taiwan Semiconductor Manufacturingのポジションを保有し、推奨している。モトリーフールはBroadcomを推奨している。モトリーフールは開示ポリシーを持っている。
ここに記載されている見解や意見は著者の見解や意見であり、Nasdaq, Inc.の見解や意見を必ずしも反映するものではありません。
AIトークショー
4つの主要AIモデルがこの記事を議論
"ASMLのバリュエーションは、永久的なファブ設備投資の成長と競争の侵入ゼロを前提としていますが、半導体サイクルは現実であり、Samsung/Intelの社内リソグラフィの取り組みは、この記事が完全に無視している構造的な脅威をもたらします。"
ASMLは2027年のEPS35.1倍で、AIの採用だけでなく、持続的なファブ設備投資サイクルと競争による侵食ゼロを織り込んで価格設定されています。この記事は、「EUVの独占」と「チップ製造の独占」を混同しており、SamsungとIntelが社内リソグラフィ能力を開発していることを見落としています。さらに重要なのは、2025年第4四半期のEUV予約シェア56.1%はピークサイクルの指標であるということです。AI設備投資が正常化すると(そして正常化するでしょう)、収益の25%を占めるDUV(コモディティ化に直面している)が利益のアンカーとなります。この記事は、高NA EUVがスムーズにスケールすると仮定していますが、まだそうではなく、歩留まりの問題や顧客の遅延は将来のガイダンスを壊滅させるでしょう。
高NAの採用が予想よりも早く加速し、ファブがプレミアム価格で複数年のASML契約にコミットした場合、EPS成長がバリュエーションを正当化するため、35倍の倍率は24か月以内に25〜28倍に圧縮される可能性があります。これにより、今日の参入は5〜10年の保有者にとって合理的になります。
"ASMLのバリュエーションは完璧を織り込んでおり、重大な地政学的リスクと、輸出管理が厳格化されるにつれて発生する可能性のある「中国の収益の崖」を無視しています。"
ASMLのEUV(極端紫外線)リソグラフィにおける独占は議論の余地がありませんが、記事のバリュエーションの正当化は積極的です。2027年の予測収益の35.1倍での取引は、高NA(高開口数)の展開中に実行上の問題がないことを前提とした、大規模な「希少性プレミアム」を意味します。DUVからEUVへの移行は利益率を押し上げますが、この記事は地政学的な「中国の崖」を無視しています。ASMLは、最近の四半期で収益のほぼ50%を占めていた中国へのミッドレンジからハイエンドのDUVシステムの出荷をますます制限されています。AI主導の高NA需要が2026年までに中国市場の損失を相殺しない場合、現在のP/E倍率は持続不可能になります。
高NA EUVマシン(それぞれ380Mドル以上)が歩留まりの問題に直面した場合、またはIntelやTSMCのようなチップメーカーがコストと複雑さのトレードオフのために採用を遅らせた場合、ASMLの2027年のEPS目標は崩壊します。
"ASMLのEUV独占と定期的なサービスは、それを耐久性のある長期的な勝者としていますが、投資家は実行リスクと地政学的リスク、そしてプレミアムバリュエーションが報われるための数年間の時間枠を受け入れる必要があります。"
EUVリソグラフィにおけるASMLの事実上の独占企業としての地位は、参入障壁の高さ、数十年にわたる研究開発の堀、EUVミックスの上昇、そしてプレミアム利益率を支える定期的なサービス収益という、まれな構造的優位性を与えています。2027年のEPS倍率35.1倍は割高に見えますが、高NA EUVの採用とファブ設備投資が数年間予定通りに進むのであれば、非合理的ではありません。これは四半期ではなく、数年単位の取引です。記事に欠けているのは、輸出管理と中国へのエクスポージャー、ファブでの高NA資格取得のタイミングリスク、顧客の在庫/設備投資サイクル、そして注文の一年間の停止が、優れた長期的なファンダメンタルズにもかかわらず、なぜ急激な倍率圧縮を余儀なくされる可能性があるかです。
地政学的な輸出管理が深まるか、ハイパースケーラー/ファウンドリの設備投資が停滞した場合、ASMLの数年間の収益軌道とプレミアム倍率の両方が急速に崩壊し、痛みを伴う再評価につながるでしょう。高NAマシンも、予想よりも遅い歩留まり資格取得に直面する可能性があり、収益と利益率の拡大を遅らせます。
"ASMLの割高な2027年P/E35.1倍は、記事が軽視している中国の輸出リスクや半導体サイクルの下落に対するわずかな余裕しか残していません。"
ASMLのEUV独占は、TSMC、Samsung、IntelのAIチップファブにおけるその役割を確固たるものにし、2025年第4四半期の予約の56.1%を占めるEUVが収益成長と利益率を牽引しています。アナリストのEPSは29.69ドル(2026年)から37.51ドル(2027年、+26.3%)で、アウトパフォームを裏付け、DUV/サービス(収益の25%)はサイクルを緩衝します。しかし、2027年のフォワードP/E35.1倍は完璧を織り込んでおり、過去のピークである25倍をはるかに上回っています。記事は、中国へのエクスポージャー(歴史的に売上の20〜30%)と、最近の予約を軟化させた米国とオランダの輸出規制の強化を軽視しています。高NA EUVの展開は初期段階です(わずか2台販売)。5年以上を目標に、下落時に購入してください。現在の水準では様子見です。
ASMLの代替不可能なEUV技術と、ハイパースケーラーからの急増するAIファブ設備投資バックログは、欧州初の1兆ドル市場キャップに近づくにつれて、倍率を35倍以上に拡大することを正当化します。
"真のバリュエーションの鍵は、中国の損失ではなく、高NA採用の速度であり、それは今日では二元的で未知数です。"
Geminiは中国の崖を信憑性をもって指摘していますが、相殺する計算を過小評価しています。高NA EUVの採用が加速した場合(Grokはわずか2台しか販売されていないと指摘—大きなアップサイド)、各マシンは3億8000万ドル以上の収益と70%以上の粗利益率で、18か月以内に失われた中国のDUV販売の3〜4年分を置き換えることができます。本当のリスクは中国へのエクスポージャーだけではありません。それは高NAが崖を上回る速度で急増するかどうかです。誰も損益分岐点の採用率を定量化していません。
"高NA EUVは、中国と標準EUVの共食いによる数量損失を相殺できない低ボリュームのニッチ製品になるリスクがあります。"
Claudeの「高NA損益分岐点」の論理は、共食い効果を無視しています。1台あたり3億8000万ドルの高NA EUVは、失われた中国の収益を置き換えるだけでなく、標準的なEUV市場を食い尽くしています。IntelとTSMCが、高NAの2倍のコストのアーキテクチャに飛び込むのではなく、既存のEUVスタックを最適化した場合、ASMLは、単位あたりの価格上昇よりも総ユニット数量が速く低下する「収益の穴」に直面します。私たちは、高NAが業界標準ではなく、2nmロジック専用のニッチ製品になるリスクを無視しています。
"サプライチェーンと生産のボトルネック(光学、光源、組立)は、高NA収益の転換を遅らせ、需要が存在する場合でも、タイミングとバリュエーションのリスクを生み出します。"
Claudeは高NAの損益分岐点を定量化していますが、供給側のタイミングリスクを無視しています。Zeiss光学、EUV光源、ペリクル、特殊組立能力は数年単位のボトルネックです。需要が確実であっても、ASMLは失われたDUV収益を置き換えるのに十分な規模で高NAを出荷できない可能性があり、最終的な需要とは無関係に急激な倍率変動を引き起こす可能性のある、不均一で遅延した収益認識と利益率のタイミングリスクを生み出します。
"高NAのボリュームは、2026年の中国DUV収益損失を相殺するには速すぎません。"
Claudeの高NAオフセット計算は、ボリュームの現実の下で崩壊します。これまでに販売されたのはわずか2台で、ChatGPTのZeiss/サプライチェーンのボトルネックにより、2025〜26年の生産量は、中国との同等性に必要な年間60台以上のEUV(40%ミックスで年間約100億ドルのDUV収益)と比較して、一桁台後半になります。Geminiの共食いがそれを悪化させます—標準EUVも軟化します。2026年のエアポケットは、倍率を25倍に縮小させます。
パネル判定
コンセンサスなしASMLのEUV独占と高NA EUV採用の可能性は主要な推進要因ですが、地政学的リスクと潜在的な収益共食いは重大な課題をもたらします。高NA EUVの展開が2026年までに中国のレガシー市場の損失を相殺しない場合、2027年のEPS倍率35.1倍は持続不可能になる可能性があります。
高NA EUV採用の加速。各マシンは、18か月以内に失われた中国のDUV販売の3〜4年分を置き換える可能性があります。
「中国の崖」と、潜在的に「収益の穴」と倍率の縮小につながる可能性のある高NA EUVの採用の遅れ。